নিশ্চিতভাৱে।প্ৰসাৰণ ৱেল্ডিং মেচিনইয়াৰ উত্তাপন পদ্ধতি, চাপ প্ৰয়োগ ব্যৱস্থা আৰু প্ৰক্ৰিয়াকৰণ পৰিৱেশৰ ওপৰত ভিত্তি কৰি শ্ৰেণীভুক্ত কৰা হয়। প্ৰতিটো প্ৰকাৰ নিৰ্দিষ্ট সামগ্ৰী, প্ৰয়োগ, আৰু গুণগত মানৰ প্ৰয়োজনীয়তাৰ বাবে উপযোগী।
ইয়াত বিভিন্ন ধৰণৰ প্ৰসাৰণ ৱেল্ডিং মেচিনৰ বিশদ বিৱৰণ দিয়া হৈছে:
উত্তাপন পদ্ধতিৰে শ্ৰেণীবিভাজন
ভেকুৱাম ফাৰ্নেচ প্ৰসাৰণ ৱেল্ডাৰ
- নীতি:অংশবোৰ বন্ধ কৰা ভেকুৱাম চেম্বাৰৰ ভিতৰত ৰখা হয়, যিটো তাৰ পিছত বাহ্যিক বা আভ্যন্তৰীণ উত্তাপন উপাদানৰ দ্বাৰা গৰম কৰা হয় (বিকিৰণীয় উত্তাপন)।
- মূল বৈশিষ্ট্যসমূহ:
বায়ুমণ্ডল:অক্সিডেচন ৰোধ কৰিবলৈ উচ্চ শূন্যতা (যেনে, ১০−৩ৰ পৰা ১০−৬ Pa)।
উত্তাপন:বৃহৎ বা জটিল অংশৰ বাবে উপযোগী একেধৰণৰ, লেহেমীয়া উত্তাপ।
চাপ:সাধাৰণতে একঅক্ষীয় (ওপৰ আৰু তলৰ প্লেটেনৰ পৰা)।
- সুবিধাসমূহ:
উচ্চ উষ্ণতাৰ একাকাৰীতা।
অক্সিডেচন-প্ৰৱণ পদাৰ্থ (Ti, Al, ছুপাৰমিশ্ৰণ)ৰ বাবে একেবাৰে উপযুক্ত।
উচ্চ-বিশুদ্ধতাৰ সংযোগ।
- অসুবিধাসমূহ:
লেহেমীয়া চক্ৰৰ সময় (গোটেই চুলাটো গৰম আৰু ঠাণ্ডা কৰা)।
উচ্চ শক্তিৰ ব্যৱহাৰ।
উচ্চ সঁজুলিৰ খৰচ।
- আবেদন:মহাকাশৰ উপাদান (টাইটানিয়ামৰ গঠন), চিকিৎসা ইমপ্লাণ্ট, পাৰমাণৱিক ইন্ধনৰ ৰড, আৰু অনুসন্ধান আৰু বিকাশ।
ৰেজিষ্টেন্স প্ৰসাৰণ ৱেল্ডাৰ (এমএফডিচি প্ৰকাৰ অন্তৰ্ভুক্ত)
- নীতি:ৰ নীতি ব্যৱহাৰ কৰেজুল হিটিং. ইলেক্ট্ৰ’ডে চাপ প্ৰয়োগ কৰি অংশবোৰৰ মাজেৰে পোনপটীয়াকৈ বৃহৎ বৈদ্যুতিক প্ৰবাহ পাৰ কৰি সংযোগস্থলত তাপ উৎপন্ন কৰে।
- মূল বৈশিষ্ট্যসমূহ:
- বায়ুমণ্ডল:বতাহত কৰিব পাৰি, কিন্তু প্ৰায়ে সুৰক্ষামূলক গেছ শ্বিল্ড ব্যৱহাৰ কৰা হয়। ভেকুৱামৰ প্ৰয়োজন নাই।
- উত্তাপন:অতি দ্ৰুত আৰু ৱেল্ড আন্তঃপৃষ্ঠত স্থানীয়কৃত।
- চাপ:উচ্চ, একঅক্ষীয় চাপ।
- সুবিধাসমূহ:
- অতি উচ্চ শক্তিৰ কাৰ্যক্ষমতা আৰু গতি।
- গণ উৎপাদনৰ বাবে সহজে স্বয়ংক্ৰিয়।
- ভেকুৱাম চুলাৰ তুলনাত সঁজুলিৰ খৰচ কম।
- অসুবিধাসমূহ:
- নিৰ্দিষ্ট জ্যামিতিত সীমাবদ্ধ য’ত ইলেক্ট্ৰ’ডে ভাল সংস্পৰ্শ কৰিব পাৰে।
- পৃষ্ঠভাগ পৰিষ্কাৰ নহ’লে চাপ জ্বলোৱাৰ আশংকা।
- আবেদন: এইটোৱেই হৈছে HAIFEI ৰ মেচিনৰ আঁৰৰ মূল প্ৰযুক্তি, গণ উৎপাদনৰ বাবে বহুলভাৱে ব্যৱহৃততামৰ নমনীয় সংযোগকাৰী (বাছবাৰ), বেটাৰী আন্তঃসংযোগ, আৰু লেমিনেটেড শ্বিম।
হট আইছ'ষ্টেটিক প্ৰেচিং (HIP) প্ৰসাৰণ ৱেল্ডাৰ
- নীতি:অংশবোৰ উচ্চ-চাপৰ পাত্ৰত ৰখা হয়। চেম্বাৰটো এটা নিষ্ক্ৰিয় গেছ (আৰ্গন)ৰে ভৰোৱা হয়, যিটো একেলগে গৰম কৰি চাপ দিয়া হয়, প্ৰয়োগ কৰা হয়আইছ'ষ্টেটিক(সকলো দিশৰ পৰা সমান) চাপ।
- মূল বৈশিষ্ট্যসমূহ:
বায়ুমণ্ডল:উচ্চ-চাপৰ নিষ্ক্ৰিয় গেছ (২০০ মেগাপাস্কেললৈকে)।
উত্তাপন:চাপৰ পাত্ৰৰ ভিতৰত চুলা।
চাপ:সমস্থিতিশীল, জটিল আকৃতিৰ বাবে আদৰ্শ।
- সুবিধাসমূহ:
আভ্যন্তৰীণ ছিদ্ৰতা নাইকিয়া কৰে আৰু ১০০% ঘন বান্ধোন সৃষ্টি কৰে।
জটিল, অনিয়মিত আকৃতিৰ বণ্ডিংৰ বাবে একেবাৰে উপযুক্ত।
- অসুবিধাসমূহ:
অতি উচ্চ সঁজুলি আৰু কাৰ্য্যকৰী খৰচ।
অতি লেহেমীয়া প্ৰক্ৰিয়াৰ চক্ৰ।
- আবেদন:গুড়ি ধাতু একত্ৰিত কৰা, জটিল কাষ্টিং বণ্ডিং কৰা, টাৰ্বাইনৰ ব্লেড মেৰামতি কৰা, জটিল মহাকাশ অংশ।
চাপ প্ৰয়োগ পদ্ধতিৰ দ্বাৰা শ্ৰেণীবিভাজন
ক) একাক্ষীয় (ফ্লেট প্লেটেন) প্ৰেছ
- বিৱৰণ:এইটোৱেই আটাইতকৈ সাধাৰণ প্ৰকাৰ। হাইড্ৰলিক চিলিণ্ডাৰ বা চাৰ্ভো মটৰ ব্যৱহাৰ কৰি একক অক্ষৰ কাষেৰে (উলম্বভাৱে) চাপ প্ৰয়োগ কৰা হয়।
- উপযুক্ততা:শ্বীট, প্লেট, আৰু বাছবাৰৰ দৰে সমতল বা সৰল বক্ৰতা উপাদানৰ বাবে আদৰ্শ।
- সীমাবদ্ধতা:অতি জটিল, ত্ৰিমাত্ৰিক জ্যামিতিত চাপৰ বিতৰণ অসমান হ’ব পাৰে।
খ) আইছ’ষ্টেটিক (HIP) প্ৰেছ
- বিৱৰণ:ওপৰত বৰ্ণনা কৰা ধৰণে গেছ মাধ্যমৰ দ্বাৰা সকলো দিশৰ পৰা একেদৰে চাপ প্ৰয়োগ কৰা হয়।
- উপযুক্ততা:জটিল, নেট-আকৃতিৰ উপাদানসমূহৰ বাবে অপৰিহাৰ্য।
গ) ভিন্নতামূলক গেছৰ চাপ
- বিৱৰণ:এটা তাৰতম্য য'ত এফালে আংশিক শূন্যতা আৰু আনফালে উচ্চ-চাপৰ গেছে অংশবোৰক বান্ধি ৰাখিবলৈ চাপৰ পাৰ্থক্য সৃষ্টি কৰে।
- উপযুক্ততা:প্ৰায়ে ডাঙৰ, পাতল চাদৰবোৰ বণ্ডিং কৰিবলৈ ব্যৱহাৰ কৰা হয়।
বিশেষ আৰু হাইব্ৰিড প্ৰকাৰ
ক) ইউটেক্টিক ডিফ্লুচন ৱেল্ডাৰ / ট্ৰেঞ্জিয়েণ্ট লিকুইড ফেজ (TLP) বণ্ডিং
- নীতি:অংশবোৰৰ মাজত এটা পাতল আন্তঃস্তৰ (যেনে, Ni, Cu, Ag) ৰখা হয়। তাপৰ অধীনত আন্তঃস্তৰটো গলি ইউটেক্টিক তৰল পদাৰ্থ গঠন কৰে, যিটো তাৰ পিছত ভিত্তি ধাতুত বিস্তাৰিত হৈ সমতাপীয়ভাৱে কঠিন হৈ পৰে।
- মূল বৈশিষ্ট্য:ব্ৰেজিং আৰু কঠিন-অৱস্থাৰ প্ৰসাৰণ ৱেল্ডিঙৰ মাজত এটা সংকৰ প্ৰক্ৰিয়া।
- সুবিধা:কম চাপৰ সৈতে অসদৃশ পদাৰ্থৰ সংযোগ স্থাপনৰ অনুমতি দিয়ে।
- দৰ্খাস্ত:জেট ইঞ্জিন টাৰ্বাইন ব্লেড, পাৱাৰ ইলেক্ট্ৰনিক্স (SiC ৰ পৰা Cu), চিৰামিকৰ পৰা ধাতুলৈ।
খ) অবিৰত ছিম প্ৰসাৰণ ৱেল্ডাৰ
- নীতি:এটা বিশেষ মেচিন য'ত ঘূৰ্ণনশীল ৰোলাৰ ইলেক্ট্ৰ'ডে চাপ আৰু কাৰেণ্ট প্ৰয়োগ কৰে, যাৰ ফলত এটা অবিৰত, লিক-টাইট প্ৰসাৰণ-ৱেল্ডেড ছিম সৃষ্টি হয়।
- দৰ্খাস্ত:তাপ বিনিময়কাৰী নলীৰ দৰে দীঘলীয়া, বন্ধ উপাদান নিৰ্মাণ।
সাৰাংশ তুলনা সূচী
| প্ৰকাৰ | উত্তাপন পদ্ধতি | চাপৰ পদ্ধতি | মূল বৈশিষ্ট্য | বেষ্ট ফৰ |
|---|---|---|---|---|
| ভেকুৱাম ফাৰ্নেচ | ৰেডিয়েন্ট (Furnace) | একাক্ষীয় | উচ্চ শূন্যতা, একেধৰণৰ তাপ | এৰোস্পেচ, মেডিকেল, আৰ এণ্ড ডি; ডাঙৰ/জটিল অংশ |
| ৰেজিষ্টেন্স (MFDC) | প্ৰতিৰোধ ক্ষমতা (Joule) | একাক্ষীয় | দ্ৰুত, দক্ষ, স্বয়ংক্ৰিয় | বৈদ্যুতিক উপাদানৰ গণ উৎপাদন(বাছবাৰ, সংযোগকাৰী) |
| হট আইছ'ষ্টেটিক (HIP) | ৰেডিয়েন্ট (Furnace) | আইছ'ষ্টেটিক (গেছ) | জটিল আকৃতিৰ ওপৰত একেধৰণৰ চাপ | গুড়ি একত্ৰিত কৰা, জটিল ঢালাই কৰা, ছিদ্ৰতা আঁতৰোৱা |
| ইউটেক্টিক / টিএলপি | ৰেডিয়েণ্ট / ৰেজিষ্টেন্স | একাক্ষীয় | গলনাংক আন্তঃস্তৰ ব্যৱহাৰ কৰে | অসদৃশ পদাৰ্থ, ছুপাৰমিশ্ৰণ, চিৰামিক |
সঠিক মেচিন কেনেকৈ বাছি লব?
নিৰ্বাচন সম্পূৰ্ণৰূপে আপোনাৰ ওপৰত নিৰ্ভৰ কৰেসামগ্ৰী, অংশ জ্যামিতি, উৎপাদনৰ আয়তন, আৰু গুণগত মানৰ প্ৰয়োজনীয়তা।
- গণ-উৎপাদন কৰা তাম বা এলুমিনিয়াম বাছবাৰ আৰু নমনীয় সংযোগকাৰীসমূহৰ বাবে: A ৰেজিষ্টেন্স (MFDC) প্ৰসাৰণ ৱেল্ডাৰ(HAIFEI ৰ বিশেষত্ব) হৈছে আটাইতকৈ কাৰ্যক্ষম আৰু খৰচ{0}}ফলপ্ৰসূ পছন্দ।
- টাইটানিয়াম বা ছুপাৰমিশ্ৰণৰ পৰা অনুসন্ধান আৰু বিকাশ বা উচ্চ-মূল্যৰ মহাকাশ উপাদানৰ বাবে: A ভেকুৱাম ফাৰ্নেচ ডিফ্লুচন ৱেল্ডাৰপ্ৰয়োজনীয়।
- জটিল ত্ৰিমাত্ৰিক আকৃতিত ১০০% ঘনত্ব লাভৰ বাবে: A হট আইছ'ষ্টেটিক প্ৰেছ (HIP)একমাত্ৰ বিকল্প।
- ধাতুৰ লগত চিৰামিক সংযোগ কৰাৰ বাবে: ইউটেক্টিক/টিএলপি বণ্ডিংহৈছে পছন্দৰ কৌশল।
সামৰণিত ক'বলৈ গ'লে, এই বিভিন্ন ধৰণৰ বুজাটো অনুকূল ৱেল্ডৰ মান, উৎপাদনশীলতা আৰু বিনিয়োগৰ লাভ লাভ কৰিবলৈ সঠিক প্ৰযুক্তি নিৰ্বাচনৰ বাবে অতি গুৰুত্বপূৰ্ণ।
